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高精度专业级无掩膜直写光刻设备

此款设备为高精度专业级无掩膜直写光刻设备  应用于大规模集成电路掩膜版制作、IC芯片、MEMS、LED、生物芯片、触摸屏等加工,有高精度工作平台,可实现8英寸的基底尺寸(可扩展)  可实现0.5μm的亚微米线宽分辨率,配备高精度套刻和背面对准功能,高产能曝光,也可接受客制化订制。

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